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沈阳鹏程真空技术有限责任公司

主营: 电阻热蒸发镀膜,磁控溅射,激光脉冲沉积,电子束

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沈阳鹏程真空技术有限责任公司
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磁控溅射机-沈阳鹏程真空技术公司-磁控溅射机哪家好

询盘留言|投诉|申领|删除 产品编号:478596401                    更新时间:2022-02-10
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磁控溅射的种类介绍

磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。

靶源分平衡式和非平衡式,平衡式靶源镀膜均匀,非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜,非平衡多用于磨损装饰膜。磁控阴极按照磁场位形分布不同,大致可分为平衡态磁控阴极和非平衡态磁控阴极。平衡态磁控阴极内外磁钢的磁通量大致相等,两极磁力线闭合于靶面,很好地将电子/等离子体约束在靶面附近,增加了碰撞几率,提高了离化效率,因而在较低的工作气压和电压下就能起辉并维持辉光放电,靶材利用率相对较高。

但由于电子沿磁力线运动主要闭合于靶面,基片区域所受离子轰击较小。非平衡磁控溅射技术,即让磁控阴极外磁极磁通大于内磁极,两极磁力线在靶面不完全闭合,部分磁力线可沿靶的边缘延伸到基片区域,磁控溅射机,从而部分电子可以沿着磁力线扩展到基片,增加基片磁控溅射区域的等离子体密度和气体电离率。不管平衡还是非平衡,若磁铁静止,其磁场特性决定了一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率,可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构,磁控溅射机价格,同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶,如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备,多用磁场静止靶源。

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磁控溅射设备的主要用途

沈阳鹏程真空技术有限责任公司拥有***的技术,我们都以质量为本,信誉高,我们竭诚欢迎广大的顾客来公司洽谈业务。如果您对磁控溅射产品感兴趣,欢迎点击左右两侧的在线客服,或拨打咨询电话。

(1)各种功能性薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如,低温沉积氮化硅减反射膜,以提高太阳能电池的光电转换效率。

(2)装饰领域的应用,如各种全反射膜及半透明膜等,如手机外壳,鼠标等。

(3) 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术,磁控溅射机哪家好,主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机

(4)化学气相沉积(CVD)生长困难及不适用的材料薄膜沉积,而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。

(5) 在光学领域:中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是透明导电玻璃广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。

(6)在机械加工行业中,表面功能膜、超硬膜,自润滑薄膜的表面沉积技术自问世以来得到长足发展,能有效的提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能,从而大幅度地提高涂层产品的使用寿命。

磁控溅射除上述已被大量应用的领域,还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。

小型磁控溅射镀膜系统简介

小型磁控溅射镀膜系统适合于快速溅射镀膜科研、教学与小批量打样,可快速、低成本的制备多种微纳米厚度的膜层。

具有一体化、占用空间小、灵活的特点,无需380V工业电,磁控溅射机多少钱,无需额外冷水机,采用无油干泵分子泵组,无需操心真空系统和操作间环境泵油污染。

保证设备具有优异的质量与性。触摸屏控制界面,带来简单、操作方便的体验。

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